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国家知识产权局信息数据显现，运用资料以色列公司请求一项名为“带电粒子体系中的掩盖靶材丈量和位移补偿以及相关办法”的专利，公开号CN121282073A，请求日期为2025年7月。
专利摘要显现，一种补偿带电粒子体系的不一样传感器的呼应时刻差异的办法和体系。这触及获取掩盖靶材的榜首和第二次级电子图画以及反向散射电子图画，这些图画是依据榜首和第二扫描图画用照耀电子束进行扫描的。根据榜首图画和旋转的第二图画之间的配准，确认次级电子位移和反向散射电子位移。根据这些位移确认补偿位移。这些图画是运用低于用于生成榜首反向散射电子图画的反向散射电子传感器的呼应周期的像素抓取周期获取的。
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